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源头厂家直供AlN陶瓷基片研磨抛光氮化铝基板抛光液

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供货总量: 10000000公斤
产 地: 北京市
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产品详情

源头厂家直供AlN陶瓷基片研磨抛光氮化铝基板抛光液基本介绍
 
源头厂家直供AlN陶瓷基片研磨抛光氮化铝基板抛光液性能特点
氮化铝陶瓷具有 的导热性(为氧化铝陶瓷的5-10倍),较低的介电常数和介质损耗,可靠的绝缘性能, 的力学性能, ,耐高温,耐化学腐蚀,且与硅的热膨胀系数相近。作为新一代的陶瓷材料,越来越受到人们的关注和重视,广泛应用于通讯器件,高亮度LED,电力电子器件等行业。
氮化铝(AlN)是一种人工合成矿物,并非天然存在于大自然中。AlN的晶体结构类型为六方纤锌矿型,具有密度小(3.26g/cm3)、强度高、耐热性好(约3060℃分解)、热导率高、耐腐蚀等优点。AlN是一种强共价键化合物,其热传导机理是晶格振动(即声子传热)。由于Al和N的原了序数小,从本性上决定了AlN具有很高的热导率,其热导率理论值可高达319W/m·K。但在实际产品中,由于AlN的晶体结构不可能完全均匀分布,并存在很多杂质和缺陷,使得其热导率般只有170-230W/m·K。
源头厂家直供AlN陶瓷基片研磨抛光氮化铝基板抛光液技术参数

项目

单位

指标值

测试标准

体积密度

g/cm3

≥3.30

GB/T 2413

导热率

20℃,W/(M·K)

≥170

GB/T 5598

介电常数

1MHz

8-10

GB/T 5594.4

击穿强度

KV/mm

≥17

GB/T 5593

抗弯强度

MPa

≥450

GB/T 5593

体积电阻率

20℃,Ω

≥1014

GB/T 5594.5

热膨胀系数

10-6mm/℃

20-300℃

2-3

GB/T 5593

300-800℃

2.5-3.5

产品

厚度

尺寸mm

表面粗糙度

氮化铝陶瓷基板

0.15mm

50.8*50.8;76.2*76.2;

101.6*101.6;110*110;

114.3*114.3;

120*120;127*127

 

0.02um-0.6mm

0.25mm

0.385mm

0.5mm

0.635mm

 

源头厂家直供AlN陶瓷基片研磨抛光氮化铝基板抛光液使用说明

为了增加氮化铝的导热性,需要在其表面进行镀金、镀银、镀铜等处理,同时,对于氮化铝表面的粗糙度有了较高的要求,在这种背景下,国瑞升公司开始研究氮化铝表面的抛光工艺,经过一段时间的研究开发,我们已经熟练掌握了氮化铝的抛光技术,并达到了非常好的效果。

 

经我公司抛光后的氮化铝表面的粗糙度,能达到0.020um以下,无孔洞现象,也可以根据客户要求进行特殊产品的定制服务,同时,GRISH公司还承揽各类氮化铝的代加工业务,我们有进口研磨抛光设备等 硬件,可得到稳定性高,表面精度高的 产品。

 

源头厂家直供AlN陶瓷基片研磨抛光氮化铝基板抛光液采购须知
 

公司名称:北京国瑞升科技股份有限公司

地址:北京市海淀区上地信息路12号中关村发展大厦C-402 100085

 

mail:guqian@, grish@  

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