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高纯度钛靶,PVD真空镀膜钛靶材 基本介绍
钛靶是一种用于磁控溅射镀膜工艺的高纯度钛材料,通常制成平面或管状靶材,通过高速离子轰击使其表面钛原子溅射并沉积到基材表面,形成具有特殊性能的钛膜层。其主要应用于半导体、光学镀膜、装饰涂层、工业防腐等领域,是 制造业的关键基础材料之一。
高纯度钛靶,PVD真空镀膜钛靶材 性能特点
高强度,耐高温、耐腐蚀性,使用寿命长
高纯度钛靶,PVD真空镀膜钛靶材 技术参数
纯度99.9%以上 尺寸规格100*40mm 100*45mm 95*40mm 95*45mm 等
执行标准:ASTM、GB/T
高纯度钛靶,PVD真空镀膜钛靶材 使用说明
PVD真空镀膜,通过高速离子轰击使其表面钛原子溅射并沉积到基材表面,形成具有特殊性能的钛膜层,使产品 加耐腐蚀,同时达到美观的效果
高纯度钛靶,PVD真空镀膜钛靶材 采购须知
一般情况下可当天或者隔天发货 ;木箱包装