产品详情
基本介绍
高纯贵金属铑溅射靶材(Rh)铑环铑颗粒蒸发镀膜
产
品
详
情
随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺
,
并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
性能特点
| 产品名称： |
铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶 |
| 牌号规格： |
Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1 |
| 用途： |
主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。 |
技术参数
铑溅射靶材
Rhodium (Rh)
| 形状 |
圆形、方形 |
| 尺寸 |
Φ50~170mm |
| 厚度 |
3~15mm |
| 纯度 |
≥3N5 |
注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。
使用说明
产
品
详
情
随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺
,
并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
采购须知
交货快，运输
苏公网安备 32011202000136号 
电子营业执照 