各种靶材用于磁控溅射工艺制备CIGS薄膜
　　一，四元合金靶材：CIGS 靶材
　　1，常规原子比：1：0.7：0.3：2或者 1：0.8：0.2：2（客户亦可根据自身工艺制订原子比例）
　　技术对接：CVD合成四元合金（高精分析天平称量，各种元素的配比公差低于百万分之一）--氮气保护下研磨制粉–HP（热压）--检验—打磨，抛光。
　　2，检验：ICP-MS；XRD
　　通过ICP-MS 检测杂质含量：5N的CIGS 靶材的杂质元素总和小于10ppm.
　　通过XRD衍射：CIGS 具备闪锌黄铜矿结构。（可提供检验报告（见下）和样品）。
　　3，靶材致密度：大于93%。
　　4，服务：可免费提供导电玻璃和99.999%的硒粉。硒粉用于客户最后的硒化工艺，因为磁控溅射CIGS的过程中有硒的流失。
　　5， 防护措施：提供MSDS及溅射过程中的必要防护。
　　
　　二，三硒化二铟（In2Se3）靶材；三硒化二 （Ga2Se3）靶材，硒化亚铜（Cu2Se），或者硒化铜（CuSe）靶材
　　技术对接：CVD 合成二元合金–HP（热压）--检验—打磨，抛光。
　　
　　三，铜 （CuGa）；铜铟（CuIn）；铜 铟（CuGaIn）靶材
　　*配方原子比例：客户可自选，我方亦可以提供常规原子比例。
　　
　　四，铜（Cu）靶；铟（In）靶，硒（Se）靶
　　技术对接：浇铸
　　
　　五，CIGS 配套靶材
　　N型： （CDS）靶，硫化锌（ZnS）靶， （ZnSe）靶。
　　氧化锌铝（AZO）靶，钼（Mo）靶
　　1，由于 有毒，所以硫化锌， 靶为其替代品。试验表明硒化铟也有此属性。
　　2， ，硫化锌， 制备工艺：CVD 高纯氩气携带金属蒸汽（镉，锌蒸汽）进入反应室与过量的H2S，H2Se 气体气相沉积而成。