光清洗制程:

使用UV是於1980年代初将光洗净法实用化，一直到90年代以改质为目的被广泛的应用。

由UV而产生之氧化反应，其效果依被处理物之种类而定分为洗净和改质两大项

而光处理法的基本原理UV是拥有杀菌能量的一种电磁波也是属於光的一种，其波长领域极广，

100mm ~400mm为紫外线放射范围，属於UV-C范围，因其波长短UV能量高，其值和很多有机物之化学结合之能量值相近，易起反应生成各种作用及效果，其中具代表的作用就是洗净.

改质对塑料玻璃陶瓷或是耐蚀性佳之金属而言有显著的效果

二、紫外光清洗的特点：

 

1、是一种无接触方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。

 

2、可 清除物体表面的碳和有机污染物。

 

3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。

 

4、保证产品的高可靠性和高成品率。

 

5、产品表面清洗处理的均匀度一致。

 

6、由於光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。

 

型 号 （U,H）	管 径 （D）	管 压 (V)	电 流 (mA)	功 率 (W)	安装长度 (ｍｍ)	弧 长 （ｍｍ）	备注
SVR40U	17.5	95±5	450	40	270	200
SVR70U	17.5	100±5	800	70	370	300
SVR90U	17.5	130±5	800	90	530	455
SVR110U	17.5	130±5	900	110	640	565
SVR160U	17.5	150±5	1000-1200	160	780	705
SVR200U	17.5	130±5	1200-1500	200	820	755

主要在液晶显示器件、半导体矽晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法为合适。

 主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、矽晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。

 可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。

 此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点，目前在液晶显示器STN的生产过程中，主要是用在膜处理技术上，对於改善膜与膜之间的密接是非常有效的，如ITO膜与感光胶膜层， 涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品，用於纳米技术研究，产品经此UV光照射发生化学反应，使产品表面性质改变。 STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中，有些制程设备相当雷同，差别在於制造工艺要求的不同。随著线路的精细化及产品的彩色比，LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有设备能力不断地精进，才能提高生产的质量与效率。