核桃壳磨料

主要优点

物理性能优异

高硬度与抗压性，核桃壳磨料抗压强度达23.40kgf（粒径1.2-1.6mm），耐磨性强，使用寿命长，适合干抛工艺。

化学稳定性：不溶于酸碱，酸、碱溶液中损耗率低（ 4.99%， 3.8%）。

吸附油能力：吸附率高达27-50%， 通过粘附作用吸附抛光膏，出光效果 。

工业抛光领域

干抛工艺：用于眼镜配件、珠宝首饰、电子元件、医疗器械等镜面抛光。

粒度选择：4mm-0.355mm（5#、6#、7#、8#、10#、12#、14#、16#、18#、20#、24#、30#、36#、46#、60#）等特定规格。

操作要点：配合抛光油（滚光油、抛光膏）使用控制抛光油用量以避免残留或过少。

粒度要求：核桃壳研磨材料要求，颗粒圆润饱满，无菱角，低粉尘，无杂质。

干抛工艺特点

与高 效性

干抛过程中无需水或抛光液，避免了废水处理问题，且抛光速度快，适合批量生产。例如，干式溜光机通过高速旋转抛光实现镜面效果，生产中无粉尘外溢。

抛光用途广泛

用于金属（如不锈钢、铁、锌合金、铝合金）等硬质材料，尤其适合精密零件（如航空 器件、医疗器械）和 装饰件（如不锈钢雕塑、珠宝首饰）的抛光。

粉尘风险需控制：

干抛易产生粉尘，长期吸入可能引发呼吸道疾病，需佩戴防尘口罩、护目镜等防护装备。

干抛工艺流程

粗抛阶段

使用粗粒度磨料（如橄榄壳磨料或核桃壳磨料6#）去除表面毛刺、氧化层，为后续抛光打基础。常用设备为干式抛光机或高速离心机、溜光机等。

中抛阶段

更换更细粒度磨料（核桃壳磨料18#），通过机械摩擦细化表面纹理。需控制机器转速，避免划痕或变形。

精抛镜面处理

采用 细的核桃壳磨料（核桃壳36#）配合抛光膏，实现镜面效果。抛光后需清洗残留磨料并检查表面粗糙度。

关键材料与设备

抛光膏选择：干抛选择膏体尤为重要，根据工件材质来选择抛光膏，每种抛光膏对应的产品工件都不一样。

设备配置：

干式溜光机、木滚筒机（带夹具）、分格式溜光机、离心机、涡流机等。

注意事项

工艺参数控制：抛光速度过快易导致工件过热，过慢影响效率，需根据工件材质调整。

压力与方向保持均匀力度和一致方向，避免交叉划痕。

质量检测与防护：

抛光后需检测表面光洁度（Ra值）、光泽度及尺寸精度，不合格需返工。

操作人员需定期进行职业健康检查，防范粉尘和化学伤害。